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      反應性離子刻蝕系統RIE

      簡要描述:v可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝v兼容200mm以下所有尺寸的晶圓

      基礎信息

      產品型號

      廠商性質

      代理商

      更新時間

      2024-10-22

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      詳細介紹

      v 為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝

      v 兼容200mm以下所有尺寸的晶圓,快速更換到不同尺寸的晶圓工藝

      v 電極的適用溫度范圍寬,-150°C400°C

      v 應用方向:

      ? III-V族材料刻蝕工藝

      ? 固體激光器 InP刻蝕

      ? VCSEL GaAs/AlGaAs刻蝕

      ? 射頻器件低損傷 GaN刻蝕

      ? 類金剛石 DLC) 沉積

      ? 二氧化硅和石英刻蝕

      ? 用特殊配置的PlasmaPro FA設備進行失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓用于高亮度LED生產的硬掩模沉積和刻蝕


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