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      電子束光刻系統

      簡要描述:v最小線寬≤8nm光柵周期≤40nmv拼接精度:100μm寫場下

      基礎信息

      產品型號

      廠商性質

      代理商

      更新時間

      2024-10-22

      瀏覽次數

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      詳細介紹

      v 最小線寬8nm    光柵周期40nm

      v 拼接精度:

      100μm寫場下,拼接精度≤20nmmean+3sigma

      500μm寫場下,拼接精度≤30nmmean+3sigma

      v 套刻精度:

      100μm寫場下,拼接精度≤20nmmean+3sigma

      500μm寫場下,拼接精度≤25nmmean+3sigma

      v 束電流穩定性<0.2%/h   束位置穩定性<120nm/8h

      v 50KV加速電壓下,寫場可在0.5μm~500μm的范圍內連續可調

      v 肖特基熱場發射電子束源,加速電壓50kv,束電流范圍至少為50pA~40nA,束電流40nA

      v 圖像發生器掃描頻率50MHz20bit分辨率,最小步距為0.5nm

      v 通用樣品架可承載散片,4inch以下的襯底,4inch專用晶圓專用樣品架,6inch專用晶圓專用樣品架,多樣品專用樣品架


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